助力通关硬件开发基础面专刊<13/30>--第三章 最小系统---布局布线
3.3布局布线
3.3.1数字地和模拟地
【考点映射】
》》》数字地和模拟地的区别?
》》》单点接地和多点接地的区别?
【出现频度】⭐⭐⭐
【难度】★★
【参考答案】
GND,在我们绘制电路图的时候,经常出现,但这个地并不是大地。对于电源来说,是电源的负极。有时候会与大地相连。
“地”的经典定义是“作为电路或系统基准的等电位点或平面”。
- (1) 功率地:功率器件的零电位参考点。
- (2) 模拟地:模拟电路的零电位参考点,例如放大电路、ADC的地。
- (3) 数字地:数字电路的零电位参考点,例如MCU的地。
至于接地的方式有单点接地,多点接地,浮地和混合接地等。
单点接地:整个系统中只存在一个点为地,各个电路的GND都要接到到这个点上。
一般用于低频电路中,对于电路的功能不会有太大影响。
多点接地:电路板存在一个地平面,各个电路的GND都直接接到地平面上。
一般用于高频电路中,降低电路的寄生电容和电感。
浮地:没有接地,但是和地等电位。
没有接地,所以该电路不受大地的干扰,但是对地存在寄生电容,可能会使干扰耦合过来。
混合接地:电路中的GND通过电感、电容接到地,使地在低频和高频时呈现出不同的结构。
可以避免不同电路之间形成环路,彼此干扰。
3.3.2多层板的板级划分
【考点映射】》》》有画过PCB吗?层叠结构是什么样的?
》》》为什么选用这种层叠结构?
【出现频度】⭐⭐⭐
【难度】★★
【参考答案】
这里以四层板为例子,通常有四个方案。
- 顶层为信号层,Layer2为地层,Layer3为电源层,底层为信号层
- 顶层为地层,layer2为信号+电源,layer3为信号+电源,底层为地层
- 顶层为电源层,Layer2为信号层,Layer3为信号层,底层为地层
- 顶层为信号层,Layer2为电源层,Layer3为地层,底层为信号层
方案比较:
方案一:此方案是四层板最常见的叠层设计方案,由于layer2为地层,所以关键信号优先选择在顶层布线。同时为了降低电源层的阻抗,更好的去耦,地层和电源层层厚薄一点。
缺点:容易受到辐射干扰。
方案二:此方案两侧都是地层,EMI屏蔽效果最好,同时电源也靠近地层,有着较低的电源层阻抗。
缺点:表面需要贴元件,会一定程度上造成地平面不完整
方案三:方案三把电源和地放在外侧,有着一定的EMI屏蔽效果。
缺点:此方案很不实用,不仅表面需要贴元件,会造成参考平面不完整。同时电源和地距离过大,电源阻抗比较大。
方案四:方案四与方案一相似,关键信号优先选择在底层。
这里附上实际0.8mm板厚的层叠结构,如下图:
3.3.3PCB阻抗以及阻抗匹配
【考点映射】》》》说一下对阻抗匹配认识?
》》》影响阻抗的因素?
》》》USB2.0、3.0的阻抗控制多少?速率是?
》》》DDR2的数据线、地址线阻抗控制多少?时钟线呢?
【出现频度】⭐⭐⭐
【难度】★★
【参考答案】
阻抗匹配:由于线路阻抗的不连续,会产生反射,会造成能量损失和信号畸变,阻抗匹配就是让源阻抗和负载阻抗共轭匹配,使信号能够完整、且提高能源效益。
方法:在源阻抗和负载阻抗中间插入无源网络,以达成阻抗匹配
对于传输线,现在我们常用Polar SI9000,通过走线阻抗、叠层结构来计算线宽W,
更准确的设计,则是需要根据制板厂的参数设计
影响阻抗的因素:线宽、介质厚度、介电常数、铜箔厚度
线宽----线宽增加,阻抗变小,距离增大阻抗增大;
介质厚度----介质厚度越大,阻抗越大,介质厚度越小,阻抗越小;
介电常数----介电常数增大,阻抗减小,介电常数减小,阻抗增大;
铜箔厚度----铜箔厚度越厚,阻抗越小,铜箔厚度越薄,阻抗越大;
除了以上四个比较重要因素外,线距和阻焊厚度等因素也会影响阻抗大小
下面这几个比较重要的:
DDR2数据线、地址线单端阻抗 单端50欧姆
DDR2时钟线差分100欧姆
USB2.0 差分90欧姆、传播速度480 Mbps,即60 MB/s,但实际传播速度30MB/S
USB3.0 差分90欧姆、传输速度大约是3.2Gbps,也就是320MB/S